GMP中规定洁净室（区)主要工作室的照明宜为A．200勒克斯B．300勒克斯C．400勒克斯D．500勒克斯E．600勒

GMP中规定洁净室(区)主要工作室适宜的照明度是

A．600勒克斯(lx)

B．500勒克斯

C．400勒克斯

D．300勒克斯

E．200勒克斯

A.洁净室(区)的表面应平整光滑、无裂缝、接口严密、无颗粒物脱落，并能耐受清洗和消毒，墙壁与地面的交界处宜成弧形或采取其他措施以减少灰尘积聚和便于清洁

B.洁净室(区)应根据生产要求提供足够的照明，主要工作室的照度宜为300勒克斯，对照度有特殊要求的生产部位可设置局部照明，厂房应有应急照明设施

C.进入洁净室(区)的空气必须净化，洁净室(区)内空气的微生物数和尘粒数应定期监测，监测结果应记录存档

D.空气洁净级别不同的相邻房间之间的静压差应大于5Pa，洁净室与室外大气的静压差应大于10Pa，并有指示压差的装置

E.洁净室(区)．的温度和相对湿度应与药品生产工艺要求相适应，无特殊要求，温度应控制在18℃-26℃，相对湿度控制在45%.-65%.

A.洁净室(区)的表面应平整光滑、无裂缝、接口严密、无颗粒物脱落，并能耐受清洗和消毒，墙壁与地面的交界处宜成弧形或采取其他措施以减少灰尘积聚和便于清洁

B.洁净室(区)应根据生产要求提供足够的照明，主要工作室的照度宜为300勒克斯，对照度有特殊要求的生产部位可设置局部照明。厂房应有应急照明设施

C.进入洁净室(区)的空气必须净化，洁净室(区)内空气的微生物数和尘粒数应定期监测，监测结果应记录存档

D.空气洁净级别不同的相邻房间之间的静压差应大于5帕，洁净室与室外大气的静压差应大于10帕，并有指示压差的装置

E.洁净室(区)韵温度和相对湿度应与药品生产工艺要求相适应，无特殊要求，温度应控制在18～26℃，相对湿度控制在45%～65%

A.200

B.300

C.400

D.500

A.400勒克斯

B.1000勒克斯

C.300勒克斯

D.1500勒克斯

A.150lax

B.200lax

C.300lax

D.400lax

A.洁净室(区)应有防止昆虫和其他动物进入的设施

B.洁净室(区)应有防尘设施和便于清洁

C.洁净室(区)应根据生产要求提供足够的照明，主要工作室的照度宜为300勒克斯

D.生产青霉素类等高致敏性药品必须使用独立的厂房与设施，分装室应保持相对正压

E.洁净室(区)的温度和相对湿度应与药品生产工艺要求相适应。无特殊要求时，温度应控制在18～26℃，相对湿度控制在45％～65％

CMP中规定清洁室（区）主要工作室的照明宜为（）。

A．600勒克斯

B．500勒克斯

C．400勒克斯

D．300勒克斯

E．200勒克斯

A.200勒克斯

B.300勒克斯

C.400勒克斯

D.500勒克斯

E.600勒克斯

洁净室(区)的主要工作室照度宜为 ()

A．200勒克斯

B．300勒克斯

C．400勒克斯

D．500勒克斯

E．600勒克斯