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[主观题]

在真空炉内烧结而成的PFM修复体的原材料是A、高熔瓷粉与镍铬合金B、中熔瓷粉与烤瓷合金C、低熔瓷粉

在真空炉内烧结而成的PFM修复体的原材料是

A、高熔瓷粉与镍铬合金

B、中熔瓷粉与烤瓷合金

C、低熔瓷粉与中熔合金

D、低熔瓷粉与烤瓷合金

E、低熔瓷粉与金合全

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更多“在真空炉内烧结而成的PFM修复体的原材料是A、高熔瓷粉与镍铬合金B、中熔瓷粉与烤瓷合金C、低熔瓷粉”相关的问题

第1题

PFM修复体是由下列哪一项在真空炉内烧结而成的修复体?()A、高熔瓷粉与镍铬合金B、中熔瓷粉与烤瓷

PFM修复体是由下列哪一项在真空炉内烧结而成的修复体?()

A、高熔瓷粉与镍铬合金

B、中熔瓷粉与烤瓷合金

C、低熔瓷粉与中熔合金

D、低熔瓷粉与烤瓷合金

E、低熔瓷粉与金合金

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第2题

PFM修复体是由下列哪一项在真空炉内烧结而成的修复体A、高熔瓷粉与镍铬合金B、低熔瓷粉与中熔合金C

PFM修复体是由下列哪一项在真空炉内烧结而成的修复体

A、高熔瓷粉与镍铬合金

B、低熔瓷粉与中熔合金

C、中熔瓷粉与金合金

D、低熔瓷粉与金合金

E、中熔瓷粉与镍铬合金

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第3题

1950年美国人提出的PFM修复体,由下列哪项材料烧结而成A、高熔瓷粉与镍铬合金B、低熔瓷粉与金合金C、

1950年美国人提出的PFM修复体,由下列哪项材料烧结而成

A、高熔瓷粉与镍铬合金

B、低熔瓷粉与金合金

C、低熔瓷粉与中熔合金

D、中熔瓷粉与镍铬合金

E、中熔瓷粉与金合金

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第4题

PFM冠体瓷烧结起始温度过低,升温速度过慢会出现A、牙冠变形B、颜色变亮C、颜色变暗D、瓷内气泡E、透明

PFM冠体瓷烧结起始温度过低,升温速度过慢会出现

A、牙冠变形

B、颜色变亮

C、颜色变暗

D、瓷内气泡

E、透明度增加

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第5题

PFM冠上釉时的炉温是A、与体瓷的烧结温度相同B、低于体瓷烧结温度6~8℃C、低于体瓷烧结温度10~20℃D、

PFM冠上釉时的炉温是

A、与体瓷的烧结温度相同

B、低于体瓷烧结温度6~8℃

C、低于体瓷烧结温度10~20℃

D、高于体瓷烧结温度6~8℃

E、高于体瓷烧结温度10~20℃

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第6题

PFM基底冠在预氧化处理中不正确的是

A.非贵金属在烤瓷炉内真空状态下加热形成氧化膜

B.贵金属在炉内半真空状态下加热形成氧化膜

C.巴非贵金属在炉内非真空状态下加热形成氧化膜

D.非贵金属预氧化烧结的温度与OP层烧结的温度相同

E.理想的氧化膜厚度为0.2~2μm

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第7题

患者,男,40岁,缺失,余留牙无异常,咬合关系良好,要求做非贵金属烤瓷桥修复,比色A3。目前国内制作PF

患者,男,40岁,患者,男,40岁,缺失,余留牙无异常,咬合关系良好,要求做非贵金属烤瓷桥修复,比色A3。目前国内制作缺失,余留牙无异常,咬合关系良好,要求做患者,男,40岁,缺失,余留牙无异常,咬合关系良好,要求做非贵金属烤瓷桥修复,比色A3。目前国内制作非贵金属烤瓷桥修复,比色A3。目前国内制作PFM冠桥金属基底常用合金是A、钴铬合金

B、镍铬合金

C、贵金属烤瓷合金

D、银钯合金

E、铜基合金

PFM桥桥体的龈底形态宜选用A、鞍基式

B、单侧接触式

C、盖嵴式

D、船底式

E、悬空式

PFM全冠金属基底的厚度一般为A、0.1~0.2mm

B、0.2~0.3mm

C、0.3~0.5mm

D、0.5~0.8mm

E、>0.8mm

制作3个单位以下PFM桥金属基底宜采用A、整体铸造法

B、分段铸造炉内前焊法

C、分段铸造炉内后焊法

D、分段铸造激光熔接法

E、以上均可

PFM连接体的位置较金属铸造桥的连接体位置A、偏颊侧

B、偏舌侧

C、偏龈底

D、偏患者,男,40岁,缺失,余留牙无异常,咬合关系良好,要求做非贵金属烤瓷桥修复,比色A3。目前国内制作

E、以上都不对

桥体的龈底形态宜选用A、鞍基式

B、单侧接触式

C、盖嵴式

D、船底式

E、悬空式

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第8题

金-瓷界面残余应力造成修复体破坏的主要因素是A.烤瓷合金与瓷粉在烤炉内冷却到室温时,永久保留在

金-瓷界面残余应力造成修复体破坏的主要因素是

A.烤瓷合金与瓷粉在烤炉内冷却到室温时,永久保留在材料内部和界面的应力

B.烤瓷合金与瓷粉之间的热膨胀系数的匹配

C.烤瓷冠烧结次数

D.烤瓷冠在烤瓷炉内的升温速率

E.金属内冠铸造时熔金时间的长、短

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第9题

金瓷结合界面处理恰当与否关系到金瓷结合强度,因此严格进行正确的处理才能保证PFM冠的质量PFM基
底冠的打磨处理中错误的是A、用钨钢针磨除贵金属表面的氧化物

B、用碳化硅砂针磨除非贵金属表面的氧化物

C、打磨时用细砂针多方均匀地打磨出金瓷结合.部要求的外形

D、禁止使用橡皮轮磨光

E、用50~100μm的氧化铝喷砂

PFM基底冠在预氧化处理中不正确的是A、非贵金属在烤瓷炉内真空状态下加热形成氧化膜

B、贵金属在炉内半真空状态下加热形成氧化膜

C、非贵金属在炉内非真空状态下加热形成氧化膜

D、非贵金属预氧化烧结的温度与0P层烧结的温度相同

E、理想的氧化膜厚度为0.2~2μm

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第10题

下列哪项为影响PFM修复体成功的关键()。

A.生物学性能

B.金一瓷结合

C.色泽

D.以上全部都是

E.以上全部都不是

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