第1题
耐酸青霉素的结构特点是
A.6位侧链引入极性基团
B.6位侧链引入位阻较大基团
C.6位侧链引入吸电子基团
D.6位侧链引入供电子基团
E.6位侧链引入疏水性基团
第2题
耐酸青霉素的结构特点是 ()
A.6位酰胺侧链引入强吸电子基团
B.6位酰胺侧链引入供电子基团
C.5位引入大的空间位阻
D.5位引入大的供电基团
E.6位酰胺侧链引入极性基团
第3题
耐酸半合成青霉素的结构特征
A、6-氨基青霉烷酸(6-APA)
B、7-氨基头孢烷酸(7-ACA)
C、侧链具有吸电子基团
D、侧链酰胺上引入体积较大的基团
E、将一些极性基团引入到酰胺的侧链中
第4题
A.6-氨基青霉烷酸(6-APA)
B.7-氨基头孢烷酸(7-ACA)
C.侧链具有吸电子基团
D.侧链酰胺上引入体积较大的基团
E.将一些极性基团引入到酰胺的侧链中
第5题
题12-19图(a)所示结构,悬臂梁AB与简支梁DG均用No18工字钢制成,BC为圆截面钢杆,直径d=20mm,梁与杆的弹性模量均为E=200GPa。若载荷F=30kN,试计算梁与杆内的最大正应力,以及横截面C的铅垂位移。
第7题
A.6-氨基青霉烷酸(6-APA)
B.7-氨基头孢烷酸(7-ACA)
C.侧链具有吸电子基团
D.侧链酰胺上引入体积较大的基团
E.将一些极性基团引入到酰胺的侧链中
耐酸半合成青霉素的结构特征
耐酶半合成青霉素的结构特征
广谱半合成青霉素的结构特征
青霉素类抗生素保持生物活性的基本结构
第8题
根据下列选项,回答 106~110 题:
A.6一氨基青霉烷酸(6一APA)
B.7一氨基头孢烷酸(7一ACA)
C.侧链具有吸电子基团
D.侧链酰胺上引入体积较大的基团
E.将一些极性基团引入到酰胺的侧链中
第 106 题 耐酸半合成青霉素的结构特征()。
第9题
透明层
A、位于牙釉质龋病损前沿,该处牙釉质的晶体开始脱矿,导致晶体间隙增大,当磨片用树胶浸封时,树胶分子足以进入这些间隙,此层称
B、紧接于透明层的表面呈现结构浑浊,模糊不清,偏振光镜下呈正双折射,孔隙增加,此层称
C、是病损区范围最大的一层,偏振光镜下也呈正双折射,孔隙较大,能使树胶分子得以进入,也较为透明,且釉质横纹及生长线更为清晰,此层称
D、此层呈现放射线阻射像,矿化程度较高,偏振光镜下呈现负双折射,此层称
E、病损从窝沟的侧壁开始,然后沿着釉柱长轴方向向深部扩展,形成基底部向着牙釉质牙本质界三角形病损,称
第10题
病损体部
A、位于牙釉质龋病损前沿,该处牙釉质的晶体开始脱矿,导致晶体间隙增大,当磨片用树胶浸封时,树胶分子足以进入这些间隙,此层称
B、紧接于透明层的表面呈现结构浑浊,模糊不清,偏振光镜下呈正双折射,孔隙增加,此层称
C、是病损区范围最大的一层,偏振光镜下也呈正双折射,孔隙较大,能使树胶分子得以进入,也较为透明,且釉质横纹及生长线更为清晰,此层称
D、此层呈现放射线阻射像,矿化程度较高,偏振光镜下呈现负双折射,此层称
E、病损从窝沟的侧壁开始,然后沿着釉柱长轴方向向深部扩展,形成基底部向着牙釉质牙本质界三角形病损,称
第11题
暗层
A、位于牙釉质龋病损前沿,该处牙釉质的晶体开始脱矿,导致晶体间隙增大,当磨片用树胶浸封时,树胶分子足以进入这些间隙,此层称
B、紧接于透明层的表面呈现结构浑浊,模糊不清,偏振光镜下呈正双折射,孔隙增加,此层称
C、是病损区范围最大的一层,偏振光镜下也呈正双折射,孔隙较大,能使树胶分子得以进入,也较为透明,且釉质横纹及生长线更为清晰,此层称
D、此层呈现放射线阻射像,矿化程度较高,偏振光镜下呈现负双折射,此层称
E、病损从窝沟的侧壁开始,然后沿着釉柱长轴方向向深部扩展,形成基底部向着牙釉质牙本质界三角形病损,称