硅集成电路工艺中,通常采用多晶硅作为掩膜进行选择性扩散。()

第1题

多晶硅单质硅的一种形态，是生产单晶硅的直接原料。（)

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第2题

既可作为TDDS骨架材料又可作为控释膜材料的是()。

A.聚硅氧烷

B.聚乙烯醇

C.乙烯-醋酸乙烯共聚物

D.聚丙烯

E.PIB

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第3题

下列关于尿干化学分析仪检测原理，错误的是A．尿液分析仪通常由机械系统、光学系统、电路系统三部分

下列关于尿干化学分析仪检测原理，错误的是

A．尿液分析仪通常由机械系统、光学系统、电路系统三部分组成

B．第一层尼龙膜起保护作用

C．第二层绒制层中的碘酸盐层可破坏VitD等干扰物质

D．第三层是固有试剂的吸水层

E．最后一层选取尿液不浸润的塑料片作为支持体

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第4题

常用于缓、控释给药系统中膜材料的是

A.EVA

B.聚丙烯酸树脂

C.氢化蓖麻油

D.聚硅氧烷

E.聚乳酸

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第5题

蓼科植物中药组织中通常含有()。

A.橙皮甙结晶

B.草酸钙结晶

C.碳酸钙结晶

D.硅质块

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第6题

在妊娠早期，胎盘分泌的哪种激素通常作为鉴别妊娠的重要指标（)A.孕激素B.雌激素C.胎盘促乳素D.绒

在妊娠早期，胎盘分泌的哪种激素通常作为鉴别妊娠的重要指标()

A.孕激素

B.雌激素

C.胎盘促乳素

D.绒毛膜促性腺激素

E.孕马血清促性腺激素

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第7题

蓼科植物中药组织中通常含有()。

A.橙皮甙结晶

B.草酸钙结晶

C.碳酸钙结晶

D.硅质块

E.树脂块

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第8题

指出制药企业湿热灭菌法通常采用的工艺条件（）。 A．120℃、10一15minB．121℃、10一15min

指出制药企业湿热灭菌法通常采用的工艺条件（）。

A．120℃、10一15min

B．121℃、10一15min

C．12l℃、15-20min

D．121℃、20-25min

E．122℃、20-25min

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第9题

有关尿液标本的采集，错误的是A．通常采用清洁的中段尿作为细菌学检验的标本B．尿液标本若不能及时

有关尿液标本的采集，错误的是

A．通常采用清洁的中段尿作为细菌学检验的标本

B．尿液标本若不能及时送检，放4℃冰箱不能超过6h

C．检测尿中结核杆菌，需留12h尿液

D．检测尿中结核杆菌，需留24h尿液

E．厌氧菌培养需取膀胱穿刺的尿标本

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第10题

湿热灭菌通常采用的工艺控制条件为A．120℃15～20分钟B．121℃15～30分钟C．121℃15～60分钟D．111℃15～90分

湿热灭菌通常采用的工艺控制条件为

A．120℃15～20分钟

B．121℃15～30分钟

C．121℃15～60分钟

D．111℃15～90分钟

E．111℃15～120分钟

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第11题

常用作控释给药系统中控释膜材料的物质是A．聚丙烯B．聚乳酸C．氢化蓖麻油D．乙烯-醋酸乙烯共聚物E．

常用作控释给药系统中控释膜材料的物质是

A．聚丙烯

B．聚乳酸

C．氢化蓖麻油

D．乙烯-醋酸乙烯共聚物

E．聚硅氧烷

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硅集成电路工艺中，通常采用多晶硅作为掩膜进行选择性扩散。（)