以下说法错误的是()。
A.制备稳定的混悬剂,需控制ζ电位的最适宜范围是20~25mV
B.助悬剂的种类主要有低分子助悬剂、高分子助悬剂、硅皂土、触变胶
C.常用的润湿剂是HLB值在8~16之间的表面活性剂
D.反絮凝剂的加入可使ζ电位升高
E.助悬剂可增加混悬剂中分散介质的黏度
A.制备稳定的混悬剂,需控制ζ电位的最适宜范围是20~25mV
B.助悬剂的种类主要有低分子助悬剂、高分子助悬剂、硅皂土、触变胶
C.常用的润湿剂是HLB值在8~16之间的表面活性剂
D.反絮凝剂的加入可使ζ电位升高
E.助悬剂可增加混悬剂中分散介质的黏度
第1题
A.制备成混悬剂后可产生一定的长效作用
B.毒性或剂量小的药物应制成混悬剂
C.沉降容积比大说明混悬剂稳定
D.絮凝度越大混悬剂越稳定
E.干混悬剂有利于解决混悬剂在保存过程中的稳定性问题
第2题
A.制备成混悬剂后可产生一定的长效作用
B.毒性或剂量小的药物不可制成混悬剂
C.沉降容积比小说明混悬剂稳定
D.絮凝度越大,混悬剂越稳定
E.干混悬剂有利于解决混悬剂在保存过程中的稳定性问题
第3题
A.制备成混悬剂后可产生一定的长效作用
B.毒性或剂量小的药物不应制成混悬剂
C.沉降容积比小说明混悬剂稳定
D.絮凝度越大,混悬剂越稳定
E.干混悬剂有利于解决混悬剂在保存过程中的稳定性问题
第4题
A.制备成混悬剂后可产生一定的长效作用
B.毒性或剂量小的药物应制成混悬剂
C.沉降容积比小说明混悬剂稳定
D.干混悬剂有利于解决混悬剂在保存过程中的稳定性问题
E.混悬剂中可加入一些高分子物质抑制结晶成长
第5题
A.制备工艺主要包括:容器、阀门系统的处理与装配,药物的配制与分装及抛射剂的填充
B.制备混悬型气雾剂应将药物微粉化,并分散在水中制成稳定的混悬液
C.抛射剂的填充方法有压灌法和冷灌法
D.压灌法设备简单,并可在常温下操作
E.冷灌法抛射剂损失较多,故应用较少
第6题
A.制备工艺主要包括:容器、阀门系统的处理与装配,药物的配制与分装及抛射剂的填充
B.制备混悬型气雾剂应将药物微粉化,并分散在水中制成稳定的混悬液
C.抛射剂的填充方法有压灌法和冷灌法
D.压灌法设备简单,并可在常温下操作
E.冷灌法抛射剂损失较多,故应用较少
第7题
下列有关混悬剂描述错误的是
A.混悬剂为非均匀液体制剂
B.混悬剂属于热力学稳定体系
C.沉降容积比是指沉降物的容积与沉降前混悬剂的容积之比
D.混悬剂的制备方法主要有分散法和凝聚法
E.混悬剂的分散介质可以为水,也可以为植物油
第8题
下列有关混悬剂的描述,错误的是
A.混悬剂为非均匀液体制剂
B.混悬剂属于热力学稳定体系
C.沉降容积比是指沉降物的容积与沉降前混悬剂的容积之比
D.混悬剂的制备方法主要有分散法和凝聚法
E.混悬剂的分散介质可以为水,也可以为植物油
第9题
关于气雾剂制备的叙述,错误的是
A、制备工艺主要包括:容器、阀门系统的处理与装配,药物的配制与分装及抛射剂的充
B、制备混悬型气雾剂应将药物微粉化,并分散在水中制成稳定的混悬液
C、抛射剂的填充方法有压灌法和冷灌法
D、压灌法设备简单,并可在常温下操作
E、冷灌法抛射剂损失较多,故应用较少
第10题
关于气雾剂制备的叙述,错误的是
A.制备工艺主要包括容器、阀门系统的处理与装配,药物配制与分装及抛射剂的填充
B.制备混悬型气雾剂应将药物微粉化,并分散在水中制成稳定的混悬液
C.抛射剂的填充方法有压灌法和冷灌法
D.压灌法设备简单,并可在常温下操作
E.冷灌法抛射剂损失较多,故应用较少