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[单选题]

半导体界面附近的固定正电荷来源于()

A.晶格失配

B.悬挂键

C.氧空位

D.离子玷污

答案
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更多“半导体界面附近的固定正电荷来源于()”相关的问题

第1题

要减少Si-SiO2界面附近的固定正电荷,可通过退火,选用晶向()。

A.低温,(100)

B.低温,(111)

C.高温,(100)

D.高温,(110)

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第2题

一块半导体样品的体积为axbxe如图所示.x轴方向有电流I,沿x方向加有均匀磁场B.实验测得a=0.10cm
,b=0.35cm,c=1.0cm,I=1.0mA,B=0.3T,样品两侧的电势差U=霍耳电压U=6.55mV.

(1)问这半导体是正电荷导电(空穴型)还是负电荷导电(电子型)?

(2)求载流子浓度,设霍耳系数仍具有式(7-8)的形式

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第3题

在异质结的界面处引入界面态的主要原因是?()

A.在异质结的两种半导体材料界面处存在晶格失配

B.由于两种材料热膨胀系数不同,在高温下引入界面态

C.化合物半导体构成的异质结中,由于成分元素的互扩散,引入界面态

D.半导体材料的表面吸附

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第4题

在异质结的界面处引入界面态的原因包括:()。

A.在异质结的两种半导体材料界面处存在晶格失配

B.由于两种材料热膨胀系数不同,在高温下引入界面态

C.化合物半导体构成的异质结中,由于成分元素的互扩散,引入界面态

D.材料表面的化学吸附

E.材料表面的原子重构

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第5题

对于非简并半导体,导带底或价带顶附近的状态密度与能量的关系为:()。

A.抛物线性关系

B.线性关系

C.幂函数关系

D.指数关系

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第6题

对于实际的MIS结构,哪些因素会影响MIS结构的C-V特性曲线,使曲线相较于理想MIS结构的C-V特性曲线发生偏移?()

A.金属和半导体之间存在功函数差

B.绝缘层中存在电荷

C.半导体与绝缘层的界面处存在表面态

D.外加偏压

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第7题

P型半导体的界面态是()。

A.施主型

B.受主型

C.可以是施主型,也可以是受主型

D.施主型受主型都有

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第8题

界面强度较小时,晶须端部及端部附近的侧面发生脱粘,损伤集中在晶须端部附近的基体中。()
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第9题

以下关于杂质的描述正确的是()。
A、半导体中的杂质会局部的破坏晶格的周期性势场,引起载流子的散射

B、电离的杂质会引起载流子的散射,从而影响载流子的迁移率

C、中性杂质不会对半导体产生影响

D、如果半导体中同时掺入施主杂质和受主杂质,由于所有的杂质都会破坏晶格周期性势场,所以对载流子迁移率的影响是两种杂质浓度之和

E、如果半导体中同时掺入施主杂质和受主杂质,由于杂质的补偿作用,对载流子浓度的影响是两种杂质浓度之差

F、如果半导体中同时掺入施主杂质和受主杂质,而且施主杂质浓度等于受主杂质浓度,由于杂质的补偿作用,该半导体材料属于本征半导体

G、杂质会在半导体的禁带中引入能级

H、如果杂质能级较浅,则杂质易于电离,可为半导体提供导电的载流子或改变半导体的导电类型,如掺入硅中的磷

I、如果杂质能级较深,则杂质不易于电离,可能形成复合中心或陷阱中心

J、如果杂质能级(深能级)的位置在EF附近,该杂质可有效促进载流子的复合,缩短非平衡载流子的寿命,起复合中心的作用,如掺入硅中的金

K、如果杂质能级(深能级)的位置在Ei附近,该杂质可暂时收容非平衡载流子,延长了非平衡载流子的寿命,起陷阱中心的作用

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第10题

可能发生骨坏死的是A.关节内骨折,长期固定B.关节附近骨折,血肿较大C.骨折合并大血管损伤D.股骨颈

可能发生骨坏死的是

A.关节内骨折,长期固定

B.关节附近骨折,血肿较大

C.骨折合并大血管损伤

D.股骨颈囊内型骨折

E.长骨多段骨折

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第11题

某矿山,其矿渣长期堆放在小河边,历经若干时期后,附近农民陆续出现头晕、头痛、记忆力减退、四肢无力
、周围神经炎及脱发等症。后经上级疾控中心调查,在土壤、河水、蔬菜中均发现有病因物质,并验证此病因物质来源于矿渣此矿渣最可能来源于A、铁矿

B、铬矿

C、镉矿

D、铅、锌矿

E、氟磷矿

此病最可能是A、铅中毒

B、铬中毒

C、镉中毒

D、铊中毒

E、氟中毒

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